プレスリリース

リソテックジャパン株式会社　関口　淳　氏、芝浦機械株式会社　小久保　光典　氏、大阪府立大学　ナノインプリント技術研究会　平井 義彦　氏にご講演をいただきます。

　株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山　正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せるナノインプリント装置での課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「ナノインプリントリソグラフィ」講座を開講いたします。

ナノインプリントによる微細成型に関するメカニズムの基礎、プロセス・材料の最適設計、装置の基本的なラインナップを示し、UV硬化のメカニズムと測定方法、応用展開等について最新の動向に触れながら解説！
本講座は、2023年01月24日開講を予定いたします。
詳細：https://andtech.co.jp/seminar_detail/?id=11324
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Live配信・WEBセミナー講習会 概要


テーマ：ナノインプリントリソグラフィによる微細加工技術・プロセス評価および半導体・デバイス・光学材料への応用展開
開催日時：2023年01月24日(火) 10:30-17:25
参 加 費：55,000円（税込） ※ 電子にて資料配布予定
U R L ：https://andtech.co.jp/seminar_detail/?id=11324
WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）



セミナー講習会内容構成


ープログラム・講師ー

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第1部 ナノインプリントリソグラフィのメカニズムと微細構造の作製技術と半導体・電子デバイスへの応用(仮題)
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講師 大阪府立大学 名誉教授 大阪公立大学 大学院 工学研究科 電子物理工学分野 特任研究員、量子放射線工学分野 客員研究員
大阪公立大学 3DPI研究会 研究会会長 応用物理学会 フェロー ノインプリント技術研究会会長 平井 義彦 氏


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第2部 熱・光ナノインプリントリソグラフィの装置・プロセス評価技術とその新展開
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講師 リソテックジャパン株式会社 ナノサイエンス研究部 部長 博士（工学）
大阪公立大学 大学院工学研究科 関口 淳 氏


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第3部 ナノインプリント装置の設計と開発、デバイス適用例の紹介- LED、ウエハレベルレンズ（WLL） 、ワイヤーグリッド偏光子（Wire Grid Polarizer）など –
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講師 芝浦機械株式会社 執行役員 R&Dセンター 研究開発部 部長 小久保 光典 氏



本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題


ナノインプリントリソグラフィーの基本原理
実験用ナノインプリントリソグラフィー装置の概要
光硬化性樹脂の硬化度の測定方法
モスアイフィルムへのナノインプリントリソグラフィーの応用
医療分野へのナノインプリントリソグラフィーの応用
ナノインプリント手法を様々なデバイス作製，様々な箇所へ適用することに関しての問題点，注意点に加え，判断基準なども紹介いたします。



本セミナーの受講形式


WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
詳細は、お申し込み後お伝えいたします。



株式会社AndTechについて


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化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。

弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
https://andtech.co.jp/



株式会社AndTech 技術講習会一覧


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一流の講師のＷＥＢ講座セミナーを毎月多数開催しております。
https://andtech.co.jp/seminar_category/



株式会社AndTech 書籍一覧


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選りすぐりのテーマから、ニーズの高いものを選び、書籍を発行しております。
https://andtech.co.jp/books/



株式会社AndTech コンサルティングサービス


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経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。
https://andtech.co.jp/business_consulting/



本件に関するお問い合わせ


株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）



下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）



第1部 ナノインプリントリソグラフィのメカニズムと微細構造の作製技術と半導体・電子デバイスへの応用(仮題)

【講演主旨】
ナノインプリントによる微細成型に関するメカニズムの基礎をしっかり理解します。そのうえで、使用される樹脂やモールドについての知識や、プロセス・材料の最適設計、さらには欠陥対策等を理解します。また、三次元構造の作成技術等様々な可能性を秘めたシーズについて紹介し、さらに応用展開について最新の動向に触れながら理解を深めます。

【プログラム】
１．ナノインプリント法の概要
1.1 ナノインプリントの歴史と特徴
(1)ナノインプリントの歴史と解像性
(2)ナノインプリントの要件と特徴
(3)ナノインプリントの研究開発動向

２．熱ナノインプリントの基礎
2.1 熱ナノインプリントの原理・特徴と長短所
2.2 樹脂の粘弾性と成型性
2.3 形状依存性
2.4 成形速度依存性
2.5 残留応力
2.6 熱ナノインプリントプロセスの最適化
2.7 熱ナノインプリント用樹脂への要求特性

３．光ナノインプリントの基礎
3.1 光ナノインプリントの原理・特徴と長短所
3.2 樹脂の流動と充填
3.3 UV照射とパターンサイズ
3.4 UV硬化の基礎と材料特性
3.5 光ナノインプリント用樹脂への要求特性

４．多様な材料を用いたナノインプリントとその特徴
4.1 ガラス材料のナノインプリント
4.2 金属材料のナノインプリント
4.3 生分解樹脂、有機半導体のナノインプリント

５．ナノインプリントにおける樹脂の分子挙動
5.1 ナノインプリントの分子動力学解析
5.2 樹脂充填と分子挙動
5.3 成型と離型の分子量依存性

６．モールド技術
6.1 モールド作製の基礎
6.2 曲面モールドの作製
6.3 レプリカ作製方法
(1)Ni電鋳によるレプリカ作製
(2)シリコンゴム材料によるレプリカ作製
(3)シリカガラス系材料によるレプリカ作製
(4)その他の方法

７．離型技術
7.1 離型の基本メカニズム
(1)破壊力学によるシミュレーション
(2)離型のメカニズムとレジストの密着力、摩擦力
(3)モールド側壁傾斜角と離型性
(4)モールドの離型方法と離型性(垂直離型、傾斜離型、ピール離型、ロール離型)
(5)モールド/レジストの弾性率比と離型性
(6)モールドの剛性と離型性
7.2 離型欠陥の低減
(1)離型剤による離型性改善
(2)偏析剤による離型性改善
(3)離型方法による離型性改善
(4)熱ナノインプリントとUVナノインプリントの離型性

８．樹脂の収縮
8.1 樹脂収縮の影響(熱収縮とUV収縮)
8.2 樹脂収縮予測と寸法精度
8.3 モールドの形状補正

９．三次元構造の作製技術
9.1 リバーサル・ナノインプリントによる三次元積層構造の作製
(1)リバーサル・ナノインプリントの原理
(2)転写モードとリバーサルモード
(3)リバーサル・ナノインプリントによる三次元積層構造の応用例
(4)三次元積層構造作製における課題
9.2 ハイブリッドナノインプリントによる三次元マイクロ・ナノ混在構造の作製
(1)ハイブリッドナノインプリントの原理
(2)ハイブリッドナノインプリントによるマイクロ・ナノ混在構造
(3)三次元マイクロ・ナノ混在構造の応用例
(4)三次元マイクロ・ナノ混在構造作製における課題

10. ディープラーニングを利用したナノインプリントのプロセス・材料設計の試み
10.1 ディープラーニングとナノインプリント
10.2 ディープラーニングによる未知材料へのナノインプリント
10.3 ディープラーニングを利用した逆問題の解によるプロセス余裕度の予測

１1．ナノインプリントの製品応用と最新動向
11.1 光デバイスへの応用
(1)反射防止構造
(2)波長版
(3)ディスプレイデバイス
11.2 バイオ・マイクロ流路デバイスへの応用
(1)病理検査チップ
(2)流体制御構造など
11.3 半導体・電子デバイスへの応用
(1)半導体メモリ
(2)太陽電池
(3)LEDなど
11.4 生体模倣構造への応用
(1)撥水構造
(2)吸着構造
(3)流体制御など

１2．今後の展開と課題

【質疑応答】


第2部 熱・光ナノインプリントリソグラフィの装置・プロセス評価技術とその新展開

【講演主旨】
ナノインプリント装置の基本的なラインナップを示し、UV硬化のメカニズムと測定方法を解説する。また、応用例として反射防止構造への応用や医療分野への新展開について述べる。


【プログラム】
１．はじめに

２．ナノインプリント技術への取り組み
2.1 ナノインプリントリソグラフィー（NIL)の概要
2.2 プロセス評価用ナノインプリント装置
(1)実験用熱・光対応インプリント装置
(2)実験用熱インプリント装置
(3)光ロールTOロールナノインプリント装置
(4)実験用小型熱・光・真空インプリント装置
(5)ナノインプリント用アライメント装置

3．ナノインプリント材料の硬化特性測定装置の開発
3.1 はじめに
3.2 硬化特性測定装置の概要
3.3 実験および結果
3.4 まとめ

4．ナノインプリント法によるモスアイ構造製作のための評価装置開発
4.1 はじめに
4.2 実験装置の製作
4.3 実験および結果
4.4 まとめ

５．ナノインプリント技術のバイオミメティクスへの応用(新展開）
5.1 バイオミメティクス
5.2 バイオミメティクスを用いた防汚機能を有する胆管ステント開発
(1)はじめに
(2)バイオミメティクス技術の応用
(3)防汚機能を有する胆管ステント
(4)ステント製作と評価
(5)動物実験
(6)まとめ

６．まとめ

【質疑応答】


第3部 ナノインプリント装置の設計と開発、デバイス適用例の紹介- LED、ウエハレベルレンズ（WLL） 、ワイヤーグリッド偏光子（Wire Grid Polarizer）など –


【講演主旨】
低コスト微細構造形成技術である、ナノインプリント成形技術の概要について紹介するとともに、超精密加工機による金型加工にも触れる。
ナノインプリント装置に関しては直押し方式の微細転写装置に加え、大面積化・高スループット化へのアプローチとして注目されているRoll to Roll方式の装置開発状況について説明し、デバイスへの適用例として、LEDの高輝度化、ウエハレベルレンズ、大面積 (G2 (370×470mm) ) サイズのWGP (ワイヤーグリッド偏光子) について解説する。

【プログラム】
１．芝浦機械株式会社の紹介

２．ナノインプリントプロセス
2.1 ナノインプリントプロセスの概要と特徴
2.2 ナノインプリントプロセス適用デバイス例
2.3 ナノインプリント装置構成と特徴

３．ナノインプリント装置と転写事例の紹介
3.1 直押し方式ナノインプリント装置 ST series
3.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT series

４．ナノインプリント手法を用いたデバイス適用例の紹介
4.1 LED
4.1.1 プロセス説明
4.1.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT seriesによるフィルムモールド作製
4.1.3 高輝度LED専用ナノインプリント装置 ST50S-LED
4.2 WLL（Wafer Level Lens ウエハレベルレンズ）
4.2.1 プロセス説明
4.2.2 機械加工およびStep & Repeat方式ナノインプリントによるマイクロレンズアレイモールド製作
4.2.3 WLL専用ナノインプリント装置 ST01S-WL
4.3 ワイヤーグリッド偏光子（大面積転写）
4.3.1 プロセス説明
4.3.2 インクジェットレジスト塗工による大面積（G2(370×470mm)）サイズのWGP作製（残膜（RLT:Residual Layer Thickness）目標50nm以下への挑戦
4.3.3 G2(370×470mm)サイズWGP転写用Roll to Plate(RtP)装置 ST(G2)-RtP

【質疑応答】


＊ 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。

以 上

プレスリリース提供：PR TIMES